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2022上海新阳之新产品百花齐放

禹赴求

(发表于: 上海新阳股吧   更新时间: 2021-12-22 15:01:11)
2022上海新阳之新产品百花齐放

炒股就是炒预期,就那么几个持续高成长景气赛道被超大资金买爆,冬播跨年行情已经开始有几周。过去20年暴利的地产、医药医疗、教育、保险、互联网未来都很困难,三季度的周期股一二三季度业绩因输入通胀涨价爆发,明年负增长越来越严重。 A股不差钱,虽然芯片半导体高成长明年不一定维持业绩暴增,但国产替代目前17%自给率离70%目标2025年实现非常紧迫,而芯片半导体化学材料仅仅5%左右的自给率,这个赛道会很坚强。而上海新阳43cm解禁坑底送出四季度营收三倍和一季度营收六倍确定性预期。上海新阳基本逻辑:1、不谈光刻胶,三季报备料7倍,订单预付款3倍,四季度营收3倍是预期,合肥基地一季度新产能将达到6倍,20Q1净利润才267万,扣非净利润2260万,一季报多少倍?最终还是看扣非倍数。2、芯片半导体已经今年第二波历史新高,每年两波,半导体是优质赛道,今年优质赛道稀少。2025自给率达到70%,材料这块目前自给率5%左右。3、43cm解禁坑底,今年逆市跑输芯片半导体六七成,基本面将涅槃重生。过去每波芯片半导体行情上海新阳加速追赶或反超,挖坑大户半年连挖两坑,右底黄金底均线密集完全同做底不一样,市场芯片半导体每年两波行情不断刷新历史新高;新阳三季报备料7倍订单预付款3倍确立四季度营收3倍,八月产能3倍投入生产很快,一季度合肥基地产能再增到6倍。挖坑大户坑底缴枪给中长线大资金很多低吸机会,抄底成功随便多空大户对战。半年报原有产品量价齐升毛利大幅提升,新产品四箭齐发,三季报备料翻6倍,四季度营收大增。上海新阳主要产品包括:1、半导体晶圆制造及先进封装用电镀液及添加剂系列产品;(填补国内空白)晶圆制造及先进封装用电镀液和添加剂系列产品为公司面向芯片制造领域开发的第二代电子电镀产品。主要包括大马士革铜互连、TSV、Bumping电镀液及配套添加剂,满足芯片90-14nm铜制程全部技术节点要求,填补国内空白。半导体封装用电子化学材料长期以来,公司在半导体传统封装领域功能性化学材料销量与市占率全国第一。2、半导体晶圆制造用清洗系列产品(填补国内空白)晶圆制造用蚀刻后清洗和研磨后清洗系列产品为公司面向芯片制造领域开发的第二代电子清洗产品。清洗系列产品包括铜制程蚀刻后清洗液、铝制程蚀刻后清洗液、氮化硅蚀刻液、化学机械研磨后清洗液等。清洗系列产品、氮化硅蚀刻液满足芯片90-14nm铜制程全部技术节点要求,填补国内空白。半年报公司承担的国家科技专项原创产品、用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液已经取得批量化订单,累计收到订单3,000余万元,实现销售1,350余万元,打破了该产品一直以来被国外公司垄断,国内唯一。国内独家新产品氮化硅蚀刻液开始规模销售,在手订单是出货的三倍,未来不断上量,一年能否超一亿?3、半导体封装用电子化学材料(填补国内空白)半导体封装用电子化学材料为用于半导体引线脚表面镀锡的化学材料及其配套电镀前处理、后处理化学材料,是公司面向传统封装领域开发的第一代电子电镀与电子清洗产品,包括无铅纯锡电镀液及添加剂、去毛刺溶液等。4、半导体制造用高端光刻胶产品系列集成电路制造用高端光刻胶产品正在开发中,包括逻辑和模拟芯片制造用的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法及浸没式光刻胶,存储芯片制造用的KrF厚膜光刻胶,底部抗反射膜(BARC)等配套材料。八月份公司自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证,并成功取得订单,一个多月下单客户增加至2家,订单持续。ArF干法及浸没式光刻胶客户认证中。5、半导体配套设备产品配套设备产品包括半导体封装引线脚表面处理配套电镀、清洗设备和先进封装制程用电镀、清洗设备。20FY营收3827万,21H1营收4470万,营收增幅134%,毛利率同比从37.85%升至45.02%,量价齐升。三季报订单预付款三倍中设备是主要因素。6、氟碳涂料产品系列环保、功能性氟碳涂料包括: PVDF氟碳粉末涂料、氟碳喷涂涂料、氟碳辊涂涂料、超细耐候粉末涂料等。7、其它产品与服务其它产品与服务主要为围绕半导体产业和泛半导体产业开展的相关业务,主要在子公司进行。包括晶圆湿法工艺技术开发与服务、化学机械抛光液、晶圆划片刀、平板显示用光刻材料等的研发、生产与销售。上海新阳半导体电子化学材料业务的主要客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、无锡华润上华等知名晶圆制造厂,以及长电科技、华天科技、通富微电子、晶方科技等知名半导体封测企业。定增合肥项目(不含光刻胶)之半导体电子化学材料将再翻倍,再造一个2021年上海新阳营收。合肥基地定增产能22年稳定量产,2021年4月22日定增7.88亿合肥基地项目增加半导体电子化学材料产能17000吨,项目预定2021年二季度完成土建施工,预计2021年第三季度开始设备安装、调试及试生产,2022 年开始稳定量产销售。KrF光刻胶,ArF干法及浸没式光刻胶项目是上海新阳重头戏,KrF光刻胶项目进度比计划提前半年进入量产,两家客户下单,ArF干法及浸没式光刻胶项目进展或同样提前半年。自去年以来,全球几乎各行业深陷“缺芯”之痛,尤其汽车产业由于无法获得足够的半导体芯片,减产停产状况不断。晶圆厂纷纷加入增资扩产队伍,也对上游设备和材料供应商的订单需求大幅增加。这一点得到了上海新阳董事长王福祥的肯定。据其称,在今年第三季度,与半导体相关的材料和设备业务营收比重首度超过50%。王福祥指出,明年上半年“缺芯”情况还会存在,他提到了两个“现在进行时”。一是晶圆厂目前还在进行产能扩张。从国内角度看,以国家集成电路产业投资基金成立为标志,本土厂商的扩产动作已经开始,且较国外提前至少5年。随着全球芯片短缺,晶圆厂又开启了新一轮扩产潮。二是,扩产潮大幅提升了对半导体材料和设备的需求。这种状态同样是现在进行时。“我们现在的目标是将这四大类半导体材料三年营收做到10亿元,今年预计超4.5亿元,到2023年我们希望突破10亿元。中长期看,在整个200亿元的市场里面,我们希望第一阶段能做到30亿元左右的规模。这是根据我们现在已经覆盖的客户和我们覆盖的产品,去认真测算的量。”李昊对第一财经表示。

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  • 闵动
    上海新阳八月前本部半导体化学材料5700吨,八月新产能扩充到19000吨,合肥基地产能一季度新增17000吨。半导体配套配套设备产品包括半导体封装引线脚表面处理配套电镀、清洗设备和先进封装制程用电镀、清洗设备。这些设备类产品都属于定制设备,需要预付款,和半导体化学材料产品属于标准品不同,过去几年几乎没有订单预付款,三季度末订单预付款三倍主要是配套设备增幅,这部分产能体现不到化学品产能(单位为吨)。 李昊表示,“我们光刻胶产品包括I线胶、KrF胶、ArF干法和ArF湿法胶,EUV光刻胶也已经在和国外团队做前端研发。基本上全品类的光刻胶产品和配套材料我们都在推进,未来光刻技术将成为我们第三大核心技术。”产能方面,上海两条产线的产能在50吨左右。此外,上海新阳合肥厂在建,近期规划KrF光刻胶产能300吨,远期规划500吨。“顺利的话,明年上半年合肥厂能够投产。”李昊对第一财经透露。 董秘李昊透露,KrF厚膜光刻胶已经取得两笔客户订单, I线和KrF其他品类光刻胶基本上已经在国内主要的fab厂同步展开验证。至于具体的产业化使用时间,仍需观察。但他强调,“我们希望这方面能够在明年上半年取得一个明显突破”。另外,新阳也正针对ArF干法光刻胶的验证与客户展开前期的准备工作,ArF湿法胶则已完成研发。 竞争对手KrF和ArF光刻胶产能又如何?
    2021-12-19 18:23:26

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  • 居豆言
    配套设备产品包括半导体封装引线脚表面处理配套电镀、清洗设备和先进封装制程用电镀、清洗设备。20FY营收3827万,21H1营收4470万,营收增幅134%,毛利率同比从37.85%升至45.02%,量价齐升。三季报订单预付款三倍中设备是主要因素。 21全年半导体配套设备营收大概1.3亿规模。
    2021-12-19 18:26:36

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  • 贝砍位
    “大客户今年128层的月产能在2-4万片,我们今年氮化硅蚀刻液从春节后开始逐步放量,全年的销售额约在4000万元。”李昊告诉记者,“未来随着客户产能进一步释放,该产品的收入有望大幅提高。” 记者从存储业内人士处获悉,预计明年长江存储128层闪存产能将迎来大规模释放,将为上游国产材料商提供机遇。根据长江存储的建设规划,其到2025年的满载产能约为30万片/月。上海新阳董秘李昊对第一财经表示,氮化硅蚀刻液对3D NAND存储器的产品良率有重大影响,而且用量很大。“现在该客户128层产品逐步量产,月产量只有几万片,年底预计能达到4万片,但我们目前已经可以做到超3000万元的营收,如果按照客户未来满产去看,我们初步测算大概有8亿~10亿元的市场空间,这还是仅仅考虑一家客户的情况。” 氮化硅蚀刻液新产品上量营收4000万,明年光长江存储产能释放,2025满产将提升十倍产能,长江存储对应上海新阳四五亿营收,随着氮化硅蚀刻液的上量,毛利率还将继续提升。
    2021-12-19 18:31:38

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  • 聂纱仆
    三五年后上海新阳会在哪里等小伙伴们抄底? 如果像投资房产投资上海新阳,光刻胶毛利率从营业收入、营业成本看大概在从2022年的54%开始随着放量不断提升,到2031年的56.7%,大概稳定在55%左右,仅仅光刻胶营收规模四年内在2025年再造一个2020年安集科技营收4.224亿,净利润1.54亿。
    2021-12-19 18:36:06

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  • 伊姬
    李昊表示,“我们光刻胶产品包括I线胶、KrF胶、ArF干法和ArF湿法胶,EUV光刻胶也已经在和国外团队做前端研发。基本上全品类的光刻胶产品和配套材料我们都在推进,未来光刻技术将成为我们第三大核心技术。” ArF湿法胶看来已经完成了研发,已经和I线胶、KrF胶、ArF干法相提并论。EUV光刻胶是否和贺利氏共同研发还待日后公告披露。
    2021-12-19 18:44:42

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  • 云派派
    市值550的新股盛美半导体,主营清洗设备和电镀设备,毛利率同上海新阳接近,今年上海新阳三季度订单预付款三倍中设备占大头,营收大概在1.3亿左右,电镀液、清洗液和添加剂是上海新阳主营,配套设备更有竞争力。半年报只有盛美半导体十分之一,年报或增加到七分之一以下。 半导体化学品材料配套设备、光刻胶子公司未来拆分上科创板也难说。上海新阳半导体产品线最齐全,百花齐放。
    2021-12-19 18:46:31

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  • 缪启向
    安集科技基本是化学机械抛光液产品,比较单一,能做到四个亿营收不容易。 上海新阳半导体化学材料主要包括芯片铜互连超纯电镀液与添加剂、氮化硅蚀刻液、干法蚀刻后清洗液、高端光刻胶、CMP抛光液、半导体封装引线脚溢料去除技术、半导体配套设备产品等,CMP抛光液就是安集科技主营产品,新阳半导体化学材料和设备产品线百花齐放。 目前国内的市场规模约100亿元,预计3~5年内能够翻倍,按照10%的国产化率测算,国内企业的市场空间天花板3~5年约20亿元。不过,目前能够真正进入产品序列的国内公司也屈指可数,上海新阳仍有可开拓的空间。 我们现在的目标是将这四大类半导体材料三年营收做到10亿元,今年预计超4.5亿元,到2023年我们希望突破10亿元。中长期看,在整个200亿元的市场里面,我们希望第一阶段能做到30亿元左右的规模。大概是20年上海新阳10倍,应该需要到2026年,用投资买房思路长期投资新阳自然盆满钵满。 上海新阳的主要大户们大概也是怎么玩,用时间换空间。
    2021-12-19 18:47:12

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  • 严岸保
    公司从2019年开始步入高研发阶段,期间承接多个国家科研项目。“今年全年的研发支出预计接近两亿,之前都是费用化计入了成本,今后考虑做一些资本化处理。”李昊表示。 40亿市值沪硅产业和中芯国际 两笔权益资产仍将影响公司业绩,"中芯的股票已经卖出了一些,而沪硅因为是原始股东,明年三月底解禁。之后也可能视公司的资金需求,做适当减持。"公司董秘李昊表示。 可见四季度研发投入约4000万,比三季度8000万减半。李昊所谓资本化大概减持沪硅产业,中芯国际已经开始减持。 董秘表示上海新阳现在的目标是将这四大类半导体材料三年营收做到10亿元,今年预计超4.5亿元。三季度预报描述“半导体和涂料业务销售收入均实现了50%左右的增长。”可见2021年半导体材料越5.0亿营收,氟碳涂料大概也5亿左右,半导体设备1.3亿,全年营收11.3亿,四季度营收大概4.2亿左右。21年营收成长成长63%。随着八月本部产能三倍,合肥基地17000万吨再将半导体化学品产能提升到六倍,去年一季度营收2.06亿,净利润267万,营收同比增发几何有待观察。
    2021-12-19 20:29:49

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  • 湛弋
    上海新阳持有1.396535亿股沪硅产业,成本1.9亿元。 2016年6月硅产业增资上海新昇价格1.1元,高出10%。同期其他股东以1.2元转让上海新昇股权给硅产业。 2017年8月上海皓芯投资0元转让2500万元股权给上海新阳,上海新阳总出资2.15亿。 2019年3月底沪硅产业发行1.396535亿股购买上海新阳26.06%上海新昇股权,上海新阳剩下1170万元上海新昇1.5%股权。 2020年5月29日上海新阳以2995.89万元转让上海新昇1.5%股权。沪硅产业股权成本1.85亿元,沪硅产业每股成本1.32元。将于2022年3月底解禁,7年增值20倍,浮盈35~40亿。
    2021-12-20 17:56:12

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  • 乜返
    今日庄股新阳又同0506一样把日线KD干到个位数,明日横盘还会继续更低。半年连挖两深坑收官年线-20cm,逆市跑输芯片半导体指数差距到五六十cm. 同0506有几点不同: 1. 0506是定增后下跌趋势的一次加速,今日算是碎步小阳后的一次急速反向,KD从80一路干到个位数;这次均线是密集均线大双底右底小伙伴们成本雷同,筹码峰低位单峰密集。 2. 这次定增解禁后,该走的走该留的留,基本面同半年前项目进展、新产能数倍、2022年营收暴增预期明确。 3. 芯片半导体和0506低点已经抬高了60cm,庄股新阳送出逆市大底。
    2021-12-20 20:03:50

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  • 侯爽虫
    目前上海新阳集成电路制造用高端光刻胶产品正在开发中,其中,公司自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证,并成功取得订单, 干法ArF光刻胶和浸没式ArF光刻胶都在验证当中,光刻胶项目取得重大突破。另外,光刻机作为光刻胶研发的重要设备,上海新阳采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机,用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机,用于 ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机,用于ArF浸没式光刻胶研发的ASML XT 1900 Gi型光刻机。
    2021-12-21 10:14:15

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